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    碳化硅、白剛玉等磨料微粉是如何進(jìn)行顆粒整形?[ 11-02 16:00 ]
    隨著(zhù)新材料產(chǎn)業(yè)的發(fā)展、傳統產(chǎn)業(yè)的技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)品升級,工業(yè)生產(chǎn)中對粉體原料提出越來(lái)越高的要求
    大面積碳化硅陶瓷膜層化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)[ 08-23 16:25 ]
    光刻機等集成電路關(guān)鍵制造裝備中某些高性能光學(xué)元件對材料制備有著(zhù)苛刻的要求,不僅要求材料具有高的穩定性,還需滿(mǎn)足某些特定的光學(xué)性能要求。反應燒結碳化硅經(jīng)拋光后其面型精度高,但是該材料是由碳化硅和游離硅組成的兩相材料,在研磨拋光等過(guò)程各相的去除速率不一致,無(wú)法達到更高的面型精度,因此無(wú)法滿(mǎn)足特定光學(xué)部件性能要求。 采用反應燒結碳化硅基體結合化學(xué)氣相沉積碳化硅(CVDSiC)膜層的方法制備高性能反射鏡,通過(guò)優(yōu)化先驅體種類(lèi)、沉積溫度、沉積壓力、反應氣體配比、氣體流場(chǎng)、溫度場(chǎng)等關(guān)鍵工藝參數,可實(shí)現大面積、均勻CVDSi
    碳化硅陶瓷反應連接技術(shù)[ 08-22 17:23 ]
    全封閉、中空部件的制備一般采用連接工藝獲得,目前常用的陶瓷連接方法主要有釬焊、擴散焊等,但這些方法均存在工藝復雜、焊接料性能同碳化硅基體差別大等缺點(diǎn),難以滿(mǎn)足光刻機等集成電路制造裝備對復雜結構部件的使用要求。 根據反應燒結碳化硅的工藝特點(diǎn),將待粘接零部件進(jìn)行預處理,并通過(guò)粘接料對制品進(jìn)行粘接,隨后再進(jìn)行反應燒結,使制品的連接與反應燒結同步完成。通過(guò)調節粘接料的組分、控制連接工藝,可實(shí)現復雜結構部件的致密、高強度、無(wú)縫隙粘接。
    高精度碳化硅陶瓷制品無(wú)模成型工藝[ 08-20 16:21 ]
    雖然采用凝膠注模成型工藝可以實(shí)現復雜形狀陶瓷制品的近凈尺寸制備,但該工藝對模具要求高,在制備復雜大尺寸部件時(shí)需設計和制造模具,增加了時(shí)間成本和模具成本,一定程度上制約了該工藝在陶瓷結構件批量化生產(chǎn)中的應用。另一方面,對一些尺寸精度要求高的陶瓷部件,凝膠注模成型工藝則無(wú)法滿(mǎn)足其尺寸精度要求。 與傳統“自下而上”的無(wú)模成型工藝不同,陶瓷素坯加工工藝(Greenceramicmachining,GCM)是一種“自上而下”的工藝,其原理類(lèi)似金屬材料或木材的加工過(guò)程如車(chē)、
    碳化硅陶瓷凝膠注模成型工藝[ 08-19 10:18 ]
    凝膠注成型工藝是制備碳化硅陶瓷部件的基礎,該工藝是一種精細的膠態(tài)成型工藝(Colloidalprocessing),可實(shí)現大尺寸、復雜結構坯體的高強度、高均勻性、近凈尺寸成型,陶瓷料漿制備是凝膠注模成型工藝中的關(guān)鍵環(huán)節之一。 就碳化硅在光刻機構件中的應用而言,分散良好、高穩定性水基碳/碳化硅料漿的制備是獲得優(yōu)質(zhì)、均勻結構碳/碳化硅坯體的前提。此外,料漿具有高的固相體積分數則可以有效減小陶瓷坯體干燥時(shí)的收縮,有利于實(shí)現陶瓷部件的近凈尺寸成型。相應地,陶瓷料漿的制備需要解決兩大難題:一是碳和碳化硅兩種陶瓷粉料在相
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